我們來(lái)搞個(gè)Logo，這里只是用簡(jiǎn)單的鉛筆工具來(lái)畫線，然后拿矢量工具來(lái)描邊。 接下來(lái)我們就搞一個(gè)Ray Wenderlich的Logo耍耍。

• 1.這個(gè)是Logo的低像素版本。
• 2.把這張Logo扔進(jìn)Sketch。
• 3.選中圖片，在右側(cè)的屬性編輯欄把不透明 - Opacity屬性改為20%，方便描邊。
• 4.使用快捷鍵Command-Shift-L把圖層鎖定，防止你不小心拖動(dòng)了，鎖定之后圖層名稱旁邊會(huì)有小鎖的圖標(biāo)。
• 5.快捷鍵V激活適量工具。
• 6.點(diǎn)擊Logo里圖形的每個(gè)頂點(diǎn)，半弧形的不用點(diǎn)，直接回到最開始的點(diǎn)來(lái)閉合矢量路徑。
• 7.在圖像路徑上雙擊即可進(jìn)入編輯狀態(tài)。
• 8.重新定位沒(méi)有和圖形頂點(diǎn)重合的矢量點(diǎn)，我們要的就是完美（圖太小了別忘了放大后再定位）。

上述步驟搞完了我們現(xiàn)在可以開始搞剛從忽略的弧形了。這里我們將對(duì)剛才學(xué)到的模式進(jìn)行活學(xué)活用。

• 1.雙擊起始點(diǎn)，模式會(huì)由直線模式 - Straight改為對(duì)稱模式 - Mirrored。
• 2.但是我們不是使用這個(gè)模式，切換到不連續(xù)模式 - Disconnected。
• 3.拉著右邊的操作棒變換弧形。
• 4.拉著左邊的操作棒和第二個(gè)矢量點(diǎn)重合，以免第一條直線變形。
• 5.如果第一個(gè)矢量點(diǎn)右邊的操作棒不能完美的畫出Logo對(duì)應(yīng)的弧線，可以開啟Logo里弧形另外一邊的點(diǎn)，也就是倒數(shù)第二個(gè)點(diǎn)。
• 6.操作比作類似第一個(gè)矢量點(diǎn)的步驟，這里的目的只要把弧形調(diào)整完美即可。

這里運(yùn)氣比較好，RW的Logo只有一條弧線，以此類推，你可以使用更多的點(diǎn)來(lái)描出更多復(fù)雜的曲線。有興趣可以去下載Swift的Logo來(lái)臨摹。過(guò)程中可以通過(guò)使用快捷鍵Tab來(lái)快速切換每個(gè)矢量點(diǎn)。